硅片擴散超聲波清洗機
發(fā)布時間:2020-10-05 作者:魯超超聲 點擊:111次
概述:
該設(shè)備用于晶圓片擴散,、蒸發(fā),、CAV生產(chǎn)前的清洗處理,。該機共有六種清洗方式可供選擇,清洗程序為純水清洗,、膽堿清洗,、冷熱純水沖洗、酸洗(HF),、純水清洗,。其工藝性能指標及可靠性完全達到進口同類設(shè)備水平,但價格,、售后服務,、備品備件的供給等是進口設(shè)備無法比擬的。
主要特點:
采用進口PP板制作,。
適用2-6寸硅片清洗,。
超聲功率強勁,性能穩(wěn)定,。
- 上一篇: 上一篇:全自動陶瓷盤超聲波清洗機
- 下一篇: 下一篇:MESA/SC晶片清洗設(shè)備